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Hitachi聚焦離子束系統(tǒng) MI4050

簡(jiǎn)要描述:MI4050是高效率的聚焦離子束設(shè)備,它使用了全新的電子光學(xué)系統(tǒng),具有世界領(lǐng)先的SIM圖像分辨率,并且TEM樣品制備效果優(yōu)異。MI4050廣泛用于截面觀察、微電路修復(fù)、納米圖像制備和納米沉積等。

  • 更新時(shí)間:2024/12/24 5:08:18
  • 訪  問(wèn)  量:7000
  • 產(chǎn)品型號(hào):MI4050
詳細(xì)介紹

 

特點(diǎn)

 

最大探針電流90nA,實(shí)現(xiàn)快速加工和大面積加工

焊線的截面加工
(加工尺寸 寬:95µm 深:55µm, 加工時(shí)間 20min)

   

通過(guò)提高極低加速電壓(0.5kV~)加工及低加速電壓二次電子圖像分辨率,實(shí)現(xiàn)制備損傷率更低的TEM樣品

*1kV以下為選配

 

可觀察高分辨率SIM成像(二次電子成像分辨率高達(dá)4nm@30kV)

正常部位

彎折部位

鋁罐的截面SIM圖像

 

采用高精度5軸電動(dòng)機(jī)械優(yōu)中心馬達(dá)臺(tái)

可在樣品臺(tái)移動(dòng)(包括傾斜)時(shí)自動(dòng)對(duì)多個(gè)部位進(jìn)行多種加工。

 

優(yōu)越的操作性能和多種多樣的加工模式

● 截面制備程序加工

● TEM/STEM樣品程序加工

● 自動(dòng)連續(xù)加工

● TEM樣品自動(dòng)連續(xù)精加工軟件

● 位圖加工

● Vector Scan加工

● 制備納米精度三維結(jié)構(gòu)樣品 其他

懸空納米導(dǎo)線制作
樣品來(lái)源:兵庫(kù)縣立大學(xué) 松井真二 先生

 

SIM像三維重構(gòu)分析

等間隔截面加工與截面觀察的往復(fù)進(jìn)行,可取的多張截面連續(xù)SIM像,并進(jìn)行3維重構(gòu)。由此可判斷樣品中顆粒,孔洞等3維分布狀態(tài)。

 

半導(dǎo)體封裝材料中的填料分布分析示例

 

使用多路氣體系統(tǒng)(MGS-II)修復(fù)電路

該系統(tǒng)可對(duì)應(yīng)保護(hù)膜材料、配線材料、絕緣膜、加速蝕刻等多種用途,照射多種氣體。

● 鎢沉積氣體

● 鉑沉積氣體

● 絕緣膜制備用沉積氣體

● 氟化氙蝕刻氣體

● 有機(jī)類蝕刻氣體

● 碳沉積氣體

 

使用XeF2氣體實(shí)現(xiàn)的大深徑比孔加工
以及采用鎢沉積引線

 

豐富多樣的坐標(biāo)鏈接功能

日立高新技術(shù)公司獨(dú)創(chuàng)的坐標(biāo)鏈接功能豐富多樣,可確定正確的加工位置和大幅縮短時(shí)間。

● 鏡圖像與SIM像的鏈接
   雙光標(biāo)功能
   日本專利第4634134號(hào) 美國(guó)專利第7595488號(hào)

● 與缺陷檢測(cè)設(shè)備建立坐標(biāo)鏈接
   已截?cái)嗟木г蛐酒部膳c缺陷檢測(cè)設(shè)備建立坐標(biāo)鏈接。

● CAD聯(lián)用導(dǎo)航軟件

 

 

規(guī)格

 
   
項(xiàng)目 內(nèi)容
樣品尺寸 50mm×50mm×12mm(t)以下
樣品臺(tái) 5軸電動(dòng)機(jī)械優(yōu)中心馬達(dá)臺(tái)
加速電壓 1~30kV?。?.5kV~ 選配)
(0.5~1.0kV : 步長(zhǎng)0.1kV)
(1.0~2.0kV : 步長(zhǎng)0.2kV)
二次電子分辨率 4nm@30kV
最大探針電流 90nA
最大探針電流密度 50A/cm2

 

 

選購(gòu)件

 

● 4通道供氣系統(tǒng)

● 自動(dòng)連續(xù)加工軟件

● TEM樣品自動(dòng)加工軟件

● 控制器顯微鏡 其他

*     :可選擇其他MI系列的各種選配件。

 

 


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